China desarrolla una herramienta EUV nacional, el monopolio de ASML en apuros
El desarrollo de la litografía ultravioleta extrema (EUV) en China dista mucho de ser un sueño lejano. El sistema más reciente, actualmente en fase de pruebas en las instalaciones de Huawei en Dongguan, aprovecha la tecnología de plasma de descarga inducida por láser (LDP), que representa un enfoque potencialmente disruptivo para la generación de luz EUV. La producción de prueba del sistema está prevista para el tercer trimestre de 2025 y la fabricación en serie para 2026, con lo que China podría romper el monopolio técnico de ASML
